ASML 亮相第四届进博会，以领先光刻技术赋能中国半导体行业加速发展

2021 年 11 月 5 日，中国上海 --11 月 5 日至 10 日，全球芯片光刻技术的领导者 ASML（阿斯麦）再度亮相第四届中国国际进口博览会（以下简称"进博会"），展台号 4.1 A1-001。ASML 以"光刻未来，携手同行"为主题，首次在进博会平台上以视频形式展示了光刻机内部各个模块之间的基本原理，并展示了 ASML"铁三角"业务 -- 全方位光刻解决方案，持续传递 ASML 深耕中国市场，推动中国乃至全球半导体行业共同发展的愿景。

ASML 展台首日迎来众多专业观众

近年来，中国集成电路产业发展迅速，为了聚焦产业前沿方向，深化合作和开放理念，技术装备展区首次设立了集成电路专区，而 ASML 便是在集成电路专区亮相。"近年来，中国集成电路行业发展十分强劲，增设集成电路专区有助于加强国内外集成电路产业间的交流，为加快构建新发展格局贡献力量。"ASML 全球副总裁、中国区总裁沈波表示，"今年是 ASML 第三次参加进博会。进博会持续展现了中国继续扩大开放和推动创新的决心，ASML 也正是抱着开放合作的态度多次参与进博会。我们希望能够借助进博会的平台进一步展示 ASML 领先的光刻解决方案和卓越的服务，深化与本土客户的合作，与中国的半导体产业链共同成长，并为中国半导体行业培养和输送优秀人才。"

首次揭秘光刻机的内部世界

一直以来，ASML 不断精进光刻精度，推进摩尔定律前进。为了更好地展示 ASML 领先的光刻工艺，ASML 在本届进博会上首次通过 3D 裸眼视频为观众分享光刻机的基本原理 -- 光源经过照明模组投向掩模版，再穿过掩模版上的电路图案，通过投影物镜将影像聚焦到晶圆上。

此外，ASML 还通过 H5 游戏的方式为观众带来了线上"追光实验室"，为参观者打造了一座沉浸式体验光刻原理的虚拟互动实验室，从而体验浸润式光刻系统与双晶圆工作台等尖端前沿的光刻技术。

展示"铁三角"光刻全方位解决方案

1984 年以来，ASML 的光刻解决方案在微小的世界中实现了巨大的飞跃，通过硬件、软件相结合，ASML 提出了全方位的光刻解决方案，以先进控制能力的光刻机台，计算光刻和电子束量测，通过建模、仿真、分析等技术，不断提高边缘定位精度，持续赋能每一代芯片的制造，提高芯片生产的良率和产能。

在 ASML 的计算光刻解决方案中，机器学习和大数据将发挥突出的作用，实现对整个光刻和量测过程的高精度预测，帮助芯片制造商优化制造流程，以最低的成本实现最高的性能。而量测检验系统将通过使用多个电子束快速测量晶圆上的所有数据点，帮助芯片制造商有效地控制芯片缺陷率。

推动半导体行业不断突破极限，促进行业人才发展

近年来，随着 5G、人工智能和物联网的发展，对于更智能、更小、更快、更节能的芯片的追求推动着半导体行业加速前进。自 1988 年向中国提供第一台光刻机开始，ASML 便与中国深深结缘。2000 年，ASML 中国正式成立。为了不断满足中国半导体行业的发展需求，更好地支持和服务本土客户，ASML 还于近期着手建设本地维修和软件研发能力。

沈波表示："半导体是一条高度全球化的产业链，开放合作是最核心的行业发展理念，ASML 的光刻机也依赖于半导体产业全球合作生产。中国的半导体行业正进入快速发展的新阶段，对创新的光刻解决方案和优秀人才的需求与日俱增。"

作为行业领导者，ASML 也加快为中国半导体行业持续分享经验并培养技术研发人才。一直以来，ASML 在中国持续践行企业社会责任，牵手公益基金开展各类项目助力青年科技人才培养；2018 年，ASML 在上海成立了全球培训中心，加深了本土光刻人才的发展。2021 年，ASML 开放了大量软硬件人才的职位，覆盖全方位光刻解决方案的各块业务。秉承驱动半导体各种创新应用帮助解决人类生活中的各种挑战，ASML 携手业内人士、客户和行业伙伴共同拓展光刻技术的边界，为实现人类更智慧、更美好的生活赋能。